Переваги та недоліки трансфлекторного РК-режиму
May 05, 2018
Відповідно до технології відображення, LCD-класифікацію можна розділити на п'ять основних типів: OLED, TFT-LCD, TFD-LCD, SIN-LCD та GF-LCD. Згідно з технологією підсвічування, РК-дисплей також може бути розділений на світлодіодний РК-дисплей та прозорий РК-дисплей.
Проникне РК-дисплей залежить від джерела підсвічування та споживає велику кількість енергії, але РК-дисплей не потребує джерела підсвічування. Це залежить від зовнішнього світлового дисплея та низького енергоспоживання і підходить для портативних електронних продуктів, таких як мобільні телефони та КПК. Тому використовується РК-дисплей. Триваліший період досліджень. У ранньому антирефлекторному типу РК використовувався режим 90 ° TN та використовувалися дві поляризаційні пластини. Пізніше були запропоновані світлочутливі змішані режими TN і рефлексивний режим VA з використанням поляризатора. Недоліком РК-дисплея є відображення на зовнішній стороні світлового світла, контрастність якого становить лише 5: 1-30: 1. Оскільки РК-дисплей переважно використовується для електронних книг та інших товарів, потрібно досягти відбивної здатності загального паперу, тобто 70-90%.
Напівавтоматичний РК-дисплей
Напівпрозорий РК-дисплей скорочується як TR-LCD, це прозоре та відображає складне слово. У структурі TR-LCD, оскільки відбите світло проходить крізь рідкокристалічний шар два рази, оптична відстань між відбитим світлом та зоною світла, що проходить, становить в два рази більше.
Недоліком TR-LCD є те, що коли навколишній навколишній світло не надто темний, підсвічування вмикається, одночасно відображаються зображення області передачі та області відбиття, що зменшує різкість якості зображення. Крім того, в області відбивання світло пропускає через шар кольорового фільтра двічі, а в зображенні зони відбивання і області передачі відбувається відхилення кольору. Для проблеми зміни кольорів Sharp розробила структуру TR-LCD, в якій товщина кольорової плівки відбивної зони зменшується на 1/2.
Виробничий процес створення рефлексивних областей та просторових областей різної товщини в рідких кристалічних осередках є відносно складним, а рушійні характеристики пропускаючої області та відбивної ділянки різні, що створює багато труднощів у фактичному виробництві та застосуванні.
